氧化擴散系統B A-1 Dry Oxide
正常
氧化擴散系統B A-2 P-type Anneal
正常
氧化擴散系統B A-3 Wet Oxide
正常
氧化擴散系統B A-4 N-type Anneal
正常
氧化擴散系統B B-1 sintering forSiO2
正常
氧化擴散系統B B-2 sintering for High K/SiGe
正常
氧化擴散系統B B-3 sintering for forming gas
正常
(LPCVD)A 磷化氫廠務端暫時停止供應
正常
低壓化學氣相沉積系統 (LPCVD)B Poly-SiGe
正常
低壓化學氣相沉積系統 (LPCVD)C Nitride
正常
低壓化學氣相沉積系統(LPCVD)D TEOS
正常
電漿輔助化學氣相沉積系統(PECVD)-A
正常
R137 New Double Side Mask Aligner (B)
正常
R137 Old Double Side Mask Aligner (A)
周翔  使用中
13:01~14:00
R137 Spin Coater(Only Use 4"wafer)
正常
矽淺蝕刻系統(Shallow Si RIE)
正常
矽深蝕刻系統(Si Deep-RIE)
正常
介電材料活性離子蝕刻系統B(RIE 200L)
正常
介電質蝕刻系統(RIE-400iP-2)
正常
高密度活性離子蝕刻系統(HDP-RIE)
正常
R101 李佩雯教授SEM設備
正常
熱阻絲蒸鍍系統(Thermal Coater)
正常
雙電子槍蒸鍍系統 A (Dual E-Gun A)
正常
雙電子鎗蒸鍍系統 B (Dual E-Gun B)
正常
真空濺鍍系統 A (Sputtering System A)
正常
真空濺鍍系統 B (Sputtering System B)
正常
冷場發射掃描式電子顯微鏡SEM(SU-8010)
郭軒宏  使用中
13:01~14:00
原子層化學氣相沉積系統(ALD)-A
正常
原子層化學氣相沉積系統(ALD)-B
陳奕凱  使用中
13:01~15:00
電漿輔助化學氣相沉積系統(PECVD)-B
正常
高解析度場發射掃描電子顯微鏡SEM(S-4700I)
離線
全光譜反射式膜厚量測
正常
四點探針(無需預約,自行找設備管理人設定使用權限)
正常
橢圓測試儀
正常
R120 Spin Coater(Only Use Wafer Fragment)
正常
R141 Wet Bench(無刷卡機,不需要線上預約)
正常
聚焦離子束與電子束顯微系統(FIB)
正常
R120 探針式輪廓儀 (Dektak XT)
正常
R137 Microscope (B)
翁子婷  使用中
高真空鍍膜系統(High vacuum deposition system)
正常
工六館R212鍍金機
魏佑宸  使用中
介電材料活性離子蝕刻系統A(RIE-400iP-1)
正常
圖型產生系統
潘奕佑  使用中
13:01~15:00
R117 Mircoscope (A)
洪晨瑋  使用中
R122-Picosun(ALD)-B
劉家承  使用中
13:01~15:00
R122-Picosun(ALD)-A
劉家承  使用中
13:01~15:00
R129 快速退火系統(RTA)
正常
R122 Veeco ALD-A
池家豪  使用中
13:01~15:00
R122 Veeco ALD-B
呂宗育  使用中
13:01~15:00